[实用新型]一种可循环晶片研磨装置

摘要

本实用新型公开了一种可循环晶片研磨装置，所述装置包括机架、升降臂、连接臂、安装臂、下压平台、研磨台，所述机架的一侧面垂直安装有升降臂，在升降臂的中间段和连接臂固定连接，连接臂和安装臂固定连接，安装臂的上方安装有手柄，安装臂的中间设置有花键转轴，花键转轴安装有下压平台，下压平台和研磨台接触配合，研磨台安装在安装座上，研磨台的上表面设置有磨盘，研磨台外侧设置有凸起的研磨台外圈。本实用新型的优点是通过行星轮片的厚度控制晶振片的厚度，精度控制准确，研磨液经过滤器过滤后可以循环使用，并且流动性好，不会堵塞砂浆管道，生产效率高，可以降低生产成本。

主权项

一种可循环晶片研磨装置，其特征是，所述装置包括机架（1）、升降臂（2）、连接臂（3）、安装臂（4）、下压平台（5）、研磨台（6），所述机架（1）的一侧面垂直安装有升降臂（2），在升降臂（2）的中间段和连接臂（3）固定连接，连接臂（3）和安装臂（4）固定连接，安装臂（4）的上方安装有手柄（9），安装臂（4）的中间设置有花键转轴，花键转轴安装有下压平台（5），下压平台（5）和研磨台（6）接触配合，研磨台（6）安装在安装座（8）上，研磨台（6）的上表面设置有磨盘，研磨台（6）外侧设置有凸起的研磨台外圈（7），所述研磨台（6）和研磨台外圈（7）之间设置有排水槽，排水槽的底部设置有排出管道（13），安装座（8）安装在机架（1）的底部，安装座（8）中间设置有主动轮（10），主动轮（10）和电机输出轴连接，主动轮（10）的中间安装有传动轴（11），传动轴（11）的上端设置有花键槽，花键槽和花键套（12）配合连接，花键套（12）固定安装在花键转轴的下端；所述研磨台外圈（7）的内侧设置有内齿轮，传动轴（11）在花键槽的下面设置有外齿轮，下压平台（5）和研磨台（6）之间放置有行星轮片，行星轮片上均布放置晶振片的通孔，行星轮片和研磨台外圈（7）的内齿轮、传动轴（11）外齿轮相互咬合连接；所述下压平台（5）的上方活动安装有研磨液法兰，研磨液法兰的圆周壁上均匀分布有研磨液接头，研磨液接头和研磨液输入管道（26）连接，研磨液输入管道（26）固定在连接臂（3）的下方；所述研磨液输入管道（26）上设置有混合阀门（27），混合阀门（27）和高压气管道（28）连接，高压气管道（28）和空气压缩机连接，排出管道（13）和储料桶（21）连接，储料桶（21）内安装有搅拌叶轮（22），储料桶（21）通过循环管道（24）和过滤桶（25）连接，循环管道（24）上安装有循环泵（23），过滤桶（25）和研磨液输入管道（26）连接。