[实用新型]一种离子溅射仪样品平台有效
| 申请号： | 201721420078.4 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN207537528U | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 李伟;霍晓楠;王瑀;郭茂莲 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种离子溅射仪样品平台，包括发条转置底座、转动轴、样品盘，其特征是：底座中带有发条装置，可以对其进行上弦储能，发条转置带动一垂直向上的转动轴，转动轴可以在发条装置的带动下自身进行旋转，样品盘连接在转动轴的上端，与转动轴的夹角可调节，范围为0°‑90°，即样品盘可以进行一定的倾斜。随着发条转置带动转动轴转动，转动轴从而带动样品盘进行转动，由于样品盘与水平面有一倾斜夹角，放置在样品盘中样品呈现为螺旋式旋转，可以得到全方位、均匀性的喷镀效果。不仅可以使样品得到全方位、均匀性的喷镀效果，而且在使用过程中避免了电场、磁场对离子溅射镀膜的干扰。结构简单，操作便捷，具有巨大的市场前景与应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 转动轴 样品盘 发条 转置 离子溅射仪 发条装置 样品平台 均匀性 喷镀 底座 转动 本实用新型 螺旋式旋转 电场 垂直向上 离子溅射 倾斜夹角 可调节 上端 储能 磁场 镀膜 上弦 应用 | ||
【主权项】：
1.一种离子溅射仪样品平台，包括发条转置底座、转动轴、样品盘，其特征是：底座中带有发条装置，可以对其进行上弦储能，发条转置带动一垂直向上的转动轴，转动轴可以在发条装置的带动下自身进行旋转，样品盘连接在转动轴的上端，与转动轴的夹角可调节，范围为0°‑90°，即样品盘可以进行一定的倾斜；随着发条转置带动转动轴转动，转动轴从而带动样品盘进行转动，由于样品盘与水平面有一倾斜夹角，放置在样品盘中样品呈现为螺旋式旋转，可以得到全方位、均匀性的喷镀效果。
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