[实用新型]晶圆厚度测量装置及含此装置的晶圆厚度测量系统有效

专利信息
申请号: 201721438242.4 申请日: 2017-11-01
公开(公告)号: CN207407780U 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 张瑞;何海峰 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: G01B5/06 分类号: G01B5/06
代理公司: 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 代理人: 周晓艳;张文君
地址: 423038 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种晶圆厚度测量装置,包括测量支架、测量脚组和千分表,所述测量脚组包括至少三个测量脚。应用本实施例的测量装置,效果是:结构精简、使用方便且无需频繁归零。本实用新型还提供一种包含上述晶圆厚度测量装置的晶圆厚度测量系统,其还包括旋转载台、平面标准件和用于放置待测量晶圆的陶瓷盘。应用本实用新型的晶圆厚度测量系统,效果是:测量速度快,不需频繁归零,能够提高测量精度并减少陶瓷盘磨损。
搜索关键词: 晶圆 厚度测量系统 厚度测量装置 本实用新型 测量脚 测量 陶瓷盘 归零 标准件 测量支架 测量装置 旋转载台 千分表 种晶 磨损 应用
【主权项】:
1.一种晶圆厚度测量装置,其特征在于,包括测量支架(1)、测量脚组(2)和千分表(3),所述测量脚组(2)包括至少三个测量脚,所述测量脚的上端设置在所述测量支架(1)上用于支撑所述测量支架(1),且至少三个所述测量脚的下端端部位于同一水平面上;所述测量支架(1)上设置用于测量晶圆厚度的千分表(3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘能华磊光电股份有限公司,未经湘能华磊光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721438242.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top