[实用新型]一种半导体晶片喷砂加工除尘装置有效
申请号: | 201721515382.7 | 申请日: | 2017-11-14 |
公开(公告)号: | CN207372995U | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 吴兴旺;徐明星;杨勇;史国顺 | 申请(专利权)人: | 山东芯诺电子科技股份有限公司 |
主分类号: | B24C9/00 | 分类号: | B24C9/00;B08B15/04 |
代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人: | 周仕芳;卢登涛 |
地址: | 272100 山东省济*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,包括排风除尘管路和水循环系统,所述排风除尘管路下端设有进风口,排风除尘管路的顶端开口为出风口,进风口连接喷砂机排风系统,排风除尘管路包括由下至上的四级滤网,排风除尘管路底部设有初级沉淀池;水循环系统包括多级沉淀池,多级沉淀池入口端连接所述初级沉淀池,多级沉淀池出口端连接多孔喷淋管,多孔喷淋管设置在所述四级滤网上部。多孔喷淋管呈水雾喷淋,冲洗过滤网吸附的金刚砂尘,形成泥水落入除尘管路下端进行初级沉淀。经初级沉淀后泥水经出水口溢流进行二级沉淀池,进一步沉淀处理,经溢流方式进入三级沉淀,最后进入清水池,由水泵抽取清水进行水雾喷淋,形成用水循环。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 晶片 喷砂 加工 除尘 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,其特征在于,包括排风除尘管路(1)和水循环系统,所述排风除尘管路(1)下端设有进风口(7),排风除尘管路(1)的顶端开口为出风口(2),进风口(7)连接喷砂机排风系统,排风除尘管路(1)包括由下至上的四级滤网,排风除尘管路(1)底部设有初级沉淀池(9);所述水循环系统包括多级沉淀池,多级沉淀池入口端连接所述初级沉淀池(9),多级沉淀池出口端连接多孔喷淋管(18),多孔喷淋管(18)设置在所述四级滤网上部。
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