[实用新型]掩模版冷却装置以及光刻机台有效
| 申请号： | 201721524036.5 | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN207408742U | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 刘连军;郝保同 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种掩模版冷却装置以及光刻机台。所述掩模版冷却装置包括采集单元、冷却单元以及控制单元，所述控制单元分别与所述采集单元和所述冷却单元通讯连接，所述采集单元用于获取曝光过程中掩模版上具有曝光区域的表面的温度信息并反馈给控制单元，所述冷却单元设置在所述掩模版的一侧并用于对所述表面喷射气体，所述控制单元用于根据所述温度信息调整所述冷却单元喷射气体的喷射状态。所述光刻机台包括用于放置所述掩模版的承板台以及所述掩模版冷却装置。本实用新型通过对掩模版上影响掩模倍率的关键部位进行冷却，起到了很好的冷却效果，从而保证了光刻过程中掩模倍率的稳定，进而确保了光刻的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模版 冷却单元 冷却装置 光刻 机台 采集单元 本实用新型 温度信息 掩模 表面喷射 关键部位 光刻过程 冷却效果 喷射气体 喷射状态 曝光过程 曝光区域 通讯连接 承板台 冷却 反馈 保证 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版冷却装置，其特征在于，包括采集单元、冷却单元和控制单元，所述控制单元分别与所述采集单元和所述冷却单元通讯连接；所述采集单元用于获取曝光过程中掩模版上具有曝光区域的一表面的温度信息并反馈给所述控制单元；所述冷却单元设置在所述掩模版的一侧并用于对所述具有曝光区域的表面喷射气体；所述控制单元用于根据所述温度信息调整所述冷却单元喷射气体时的喷射状态。
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