[实用新型]物理气相沉积设备有效
| 申请号： | 201721543014.3 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN207918947U | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 李扬德;卢昆;高宽 | 申请（专利权）人： | 东莞颠覆产品设计有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 罗伟添;秦维 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市松山湖高*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种物理气相沉积设备。物理气相沉积设备包括壳体、发射源、承载装置和动力装置，其中，壳体的内部形成真空镀膜室，发射源、承载装置和动力装置位于真空镀膜室内，动力装置连接至承载装置以使位于承载装置上的待镀膜产品产生上下振动、由里向外的翻转以及沿预定方向的旋转。本实用新型的物理气相沉积设备镀膜时，不仅省略了大量人工手动上挂这一步骤，极大地提高了加工效率，一次加工的产品是普通挂具方式镀膜的几十倍之多，极大地降低了加工成本，镀膜过程的自动化程度更高；而且可以使得待镀膜产品能够获得完整全面的PVD镀层，显著的提高了产品的适用性，镀膜质量也能得到进一步的保障。 | ||
| 搜索关键词： | 物理气相沉积设备 承载装置 本实用新型 动力装置 镀膜产品 发射源 镀膜 壳体 动力装置连接 真空镀膜室 镀膜过程 方式镀膜 加工效率 人工手动 上下振动 一次加工 预定方向 真空镀膜 翻转 省略 挂具 自动化 室内 加工 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积设备，其特征在于，所述物理气相沉积设备包括壳体、发射源、承载装置和动力装置，其中，所述壳体的内部形成真空镀膜室，所述发射源、承载装置和动力装置位于所述真空镀膜室内，所述承载装置具有用于容置待镀膜产品的内凹的容置部，所述发射源位于所述承载装置上方，所述动力装置连接至所述承载装置以使位于所述承载装置上的待镀膜产品产生上下振动、由里向外的翻转以及沿预定方向的旋转。
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