[实用新型]晶圆侦测装置及晶圆清洗机

摘要

本实用新型公开了一种晶圆侦测装置及晶圆清洗机，晶圆侦测装置适用以在晶圆清洗工艺中侦测多个晶圆的状态。晶圆侦测装置包含光发射元件、光接收元件及处理装置。光发射元件配置成对多个晶圆发射光线。光接收元件设置在光发射元件的一侧，且光接收元件配置成接收从多个晶圆反射的光线。处理装置信号连接光接收元件。处理装置包含处理单元及判断单元。处理单元配置成将光接收元件所接收的光线转换成侦测光强信号及/或侦测轮廓外形。判断单元配置成根据侦测光强信号及/或侦测轮廓外形判断多个晶圆的状态。借此，本实用新型的晶圆侦测装置，可在晶圆清洗工艺中侦测并判断晶圆的位置与数量是否正确，以确保晶圆清洗工艺顺利进行。

主权项

1.一种晶圆侦测装置，适用以在晶圆清洗工艺中侦测多个晶圆的状态，其特征在于，所述晶圆侦测装置包含：光发射元件，其设置在能够对所述多个晶圆发射光线的范围内，所述光发射元件配置成对所述多个晶圆发射光线；光接收元件，其设置在所述光发射元件的一侧，且所述光接收元件配置成接收从所述多个晶圆反射的光线；以及处理装置，其信号连接所述光接收元件，其中所述处理装置包含：处理单元，其配置成将所述光接收元件所接收的光线转换成侦测光强信号及/或侦测轮廓外形；以及判断单元，其配置成根据所述侦测光强信号及/或所述侦测轮廓外形判断所述多个晶圆的状态。