[实用新型]一种脉冲激光多光束多靶材共沉积装置有效
| 申请号： | 201721582646.0 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN208055453U | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 胡凯;张晓军;辛安玲玲 | 申请（专利权）人： | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种脉冲激光多光束多靶材共沉积装置包括：设置于真空室内的激光发射器、激光控制器、多个靶材及基板；其中，激光发射器发射指定强度的激光射线，激光控制器接收激光射线，并控制所述激光射线在指定时刻聚焦投射到指定的所述靶材上，以使靶材的原子溅射到基板上。通过本实用新型，能够在不降低激光器可调能量的最大值的情况下实现激光的分时切换，溅射多个靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 激光射线 本实用新型 共沉积装置 激光发射器 激光控制器 脉冲激光 多光束 多靶 基板 溅射 分时切换 激光器 可调 投射 激光 聚焦 室内 发射 | ||
【主权项】：
1.一种脉冲激光多光束多靶材共沉积装置，其特征在于，包括：设置于真空室内的激光发射器、激光控制器、不同位置的多个靶材及基板；其中，所述激光发射器发射指定强度的激光射线，所述激光控制器接收所述激光射线，并控制所述激光射线在指定时刻聚焦投射到指定的所述靶材上，以使靶材的原子溅射到所述基板上。
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