[实用新型]一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长装置有效

专利信息
申请号: 201721589853.9 申请日: 2017-11-24
公开(公告)号: CN207608656U 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 左洪波;杨鑫宏;李铁;阎哲华 申请(专利权)人: 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长装置。它包括石墨坩埚、加热线圈、抽真空装置和充气装置,抽真空装置和充气装置分别连接石墨坩埚内腔,连接处设置有蝶阀,加热线圈均匀设置在石墨坩埚外围,石墨坩埚内腔顶部设置有可移动的承载原料籽晶装置,充气装置连接氩气设备,加热线圈连接电子控制系统,抽真空装置包括机械泵和真空计,石墨坩埚内腔下方设置有多层交替均匀铺粉的C粉和Si颗粒。本实用新型的目的在于优化SiC单晶的生长工艺参数,进而生长出高纯半绝缘4H‑SiC单晶,具有提高SiC单晶生长效率、成品率、稳定性等特点。
搜索关键词: 石墨坩埚 抽真空装置 充气装置 加热线圈 半绝缘碳化硅单晶 本实用新型 生长装置 单晶 内腔 生长 电子控制系统 生长工艺参数 氩气 单晶生长 多层交替 均匀设置 内腔顶部 半绝缘 成品率 机械泵 可移动 真空计 蝶阀 高纯 铺粉 籽晶 承载 外围 优化
【主权项】:
1.一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长装置,其特征在于它包括石墨坩埚、加热线圈、抽真空装置和充气装置,抽真空装置和充气装置分别连接石墨坩埚内腔,连接处设置有蝶阀,加热线圈均匀设置在石墨坩埚外围,石墨坩埚内腔顶部设置有可移动的承载原料籽晶装置,充气装置连接氩气设备,加热线圈连接电子控制系统,抽真空装置包括机械泵和真空计,石墨坩埚内腔下方设置有多层交替均匀铺粉的C粉和Si颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司,未经哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721589853.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top