[实用新型]一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长装置有效
申请号: | 201721589853.9 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN207608656U | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 左洪波;杨鑫宏;李铁;阎哲华 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150001 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长装置。它包括石墨坩埚、加热线圈、抽真空装置和充气装置,抽真空装置和充气装置分别连接石墨坩埚内腔,连接处设置有蝶阀,加热线圈均匀设置在石墨坩埚外围,石墨坩埚内腔顶部设置有可移动的承载原料籽晶装置,充气装置连接氩气设备,加热线圈连接电子控制系统,抽真空装置包括机械泵和真空计,石墨坩埚内腔下方设置有多层交替均匀铺粉的C粉和Si颗粒。本实用新型的目的在于优化SiC单晶的生长工艺参数,进而生长出高纯半绝缘4H‑SiC单晶,具有提高SiC单晶生长效率、成品率、稳定性等特点。 | ||
搜索关键词: | 石墨坩埚 抽真空装置 充气装置 加热线圈 半绝缘碳化硅单晶 本实用新型 生长装置 单晶 内腔 生长 电子控制系统 生长工艺参数 氩气 单晶生长 多层交替 均匀设置 内腔顶部 半绝缘 成品率 机械泵 可移动 真空计 蝶阀 高纯 铺粉 籽晶 承载 外围 优化 | ||
【主权项】:
1.一种PVT法生长大尺寸半绝缘碳化硅单晶的生长装置,其特征在于它包括石墨坩埚、加热线圈、抽真空装置和充气装置,抽真空装置和充气装置分别连接石墨坩埚内腔,连接处设置有蝶阀,加热线圈均匀设置在石墨坩埚外围,石墨坩埚内腔顶部设置有可移动的承载原料籽晶装置,充气装置连接氩气设备,加热线圈连接电子控制系统,抽真空装置包括机械泵和真空计,石墨坩埚内腔下方设置有多层交替均匀铺粉的C粉和Si颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司,未经哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721589853.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种单晶炉连续加料装置
- 下一篇:一种改进的铸锭炉