[实用新型]一种涂胶腔室及匀胶显影机

摘要

本实用新型公开了一种涂胶腔室及匀胶显影机，属于半导体制造技术领域，匀胶显影机包括用于承载待处理晶圆的静电吸盘，涂胶腔室包括：内腔室，包括第一顶部，第一顶部具有第一容置孔，静电吸盘设置于内腔室内；外腔室，套设于内腔室上，外腔室包括第二顶部，第二顶部具有与第一容置孔对应的第二容置孔；呈环状的垫圈，贴合第二顶部的内壁固定在外腔室上，垫圈包括与第一顶部相对的第一倾斜部和对应于第二容置孔的垂直部，第一倾斜部与垂直部之间通过一第二倾斜部连接。上述技术方案的有益效果是：对涂胶腔室进行改造，在解决球状缺陷的同时，减小排气泵的工作功率，降低涂胶工序中排气系统能耗，减小生产成本。 1

主权项

1.一种涂胶腔室，应用于匀胶显影机中，所述匀胶显影机包括用于承载待处理晶圆的静电吸盘，于所述静电吸盘的上方设置有光阻喷嘴，其特征在于，所述涂胶腔室包括：

内腔室，包括第一顶部，所述第一顶部具有第一容置孔，所述静电吸盘设置于所述内腔室内；

外腔室，套设于所述内腔室上，所述外腔室包括第二顶部，所述第二顶部具有与所述第一容置孔对应的第二容置孔；

所述静电吸盘通过所述第一容置孔伸入到所述外腔室内，待处理晶圆的边缘位于所述第一顶部和所述第二顶部形成的通道内；

呈环状的垫圈，贴合所述第二顶部的内壁固定在所述外腔室上，所述垫圈包括与所述第一顶部相对的第一倾斜部和对应于所述第二容置孔的垂直部，所述第一倾斜部与所述垂直部之间通过一第二倾斜部连接。

2.如权利要求1所述的涂胶腔室，其特征在于，所述第二倾斜部与水平面呈45度夹角。

3.如权利要求1所述的涂胶腔室，其特征在于，待处理晶圆的边缘与所述第二倾斜部之间的距离为8～13mm。

4.如权利要求3所述的涂胶腔室，其特征在于，待处理晶圆的边缘与所述第二倾斜部之间的距离为10mm。

5.如权利要求1所述的涂胶腔室，其特征在于，所述垫圈的厚度为10～15mm。

6.如权利要求1所述的涂胶腔室，其特征在于，所述第二顶部的内壁与水平面呈20度夹角。

7.如权利要求1所述的涂胶腔室，其特征在于，所述外腔室与所述内腔室于底部通过一环形底板封闭连接；

所述环形底板上对称设置有多个通孔；

多个所述通孔通过管道连接外部的排气泵。

8.一种匀胶显影机，其特征在于，包括如权利要求1‑7中任意一项所述的涂胶腔室。