[实用新型]UV解胶机有效
| 申请号： | 201721599436.2 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN207818529U | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 尹达 | 申请（专利权）人： | 宁波比亚迪半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人： | 谭果林 |
| 地址： | 315800 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种UV解胶机，包括机架，机架内设有封闭的工作空间，机架上设有UV光源和能够开合工作空间的遮光罩，UV光源位于工作空间内，还包括控制装置，机架内设有上下料位置和解胶位置，上下料位置邻近遮光罩，解胶位置位于UV光源的光照区域，机架内设有用于放置晶圆的托盘及用于在上下料位置与解胶位置之间传送托盘的驱动装置，UV光源和驱动装置分别与控制装置电性连接机架上设有遮光罩；通过控制装置与驱动装置的电性连接，使得驱动装置精准的将晶圆移动到上下料位置或解胶位置，使得解胶充分。通过遮光罩的设置，将机架内工作空间中的紫外光阻挡在工作空间内，不会照射到机架外，有效的阻止了紫外光对人体的伤害，不会造成安全隐患。 | ||
| 搜索关键词： | 解胶 工作空间 驱动装置 上下料 遮光罩 控制装置 托盘 电性连接 晶圆 本实用新型 紫外光阻挡 安全隐患 光照区域 位置邻近 紫外光 胶位置 开合 照射 传送 封闭 伤害 移动 | ||
【主权项】：
1.UV解胶机，包括机架，所述机架内设有封闭的工作空间，所述机架上设有UV光源和能够开合所述工作空间的遮光罩，所述UV光源位于所述工作空间内，其特征在于：还包括控制装置，所述机架内设有上下料位置和解胶位置，所述上下料位置邻近所述遮光罩，所述解胶位置位于所述UV光源的光照区域，所述机架内设有用于放置晶圆的托盘及用于在所述上下料位置与所述解胶位置之间传送所述托盘的驱动装置，所述UV光源和所述驱动装置分别与所述控制装置电性连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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