[实用新型]一种化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201721608552.6 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN207581930U | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 袁洋 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种化学气相沉积装置。所述化学气相沉积装置包括气体分配盒、腔室本体以及至少两个定位销。所述腔室本体具有至少两个螺纹孔，所述气体分配盒上设置有与所述螺纹孔相匹配的通孔，所述定位销通过所述螺纹孔与所述腔室本体可拆卸连接，所述定位销部分设置在所述气体分配盒上的通孔内，所述定位销设置在所述通孔内的部分的最大外径与所述通孔的最小孔径相等。本实用新型中的化学气相沉积装置可提高化学气相沉积装置安装的便捷性，可减少安装过程中气体分配盒、腔室本体以及设置在气体分配盒、腔室本体之间的密封圈的磨损。 | ||
| 搜索关键词： | 化学气相沉积装置 气体分配盒 腔室本体 定位销 通孔 螺纹孔 本实用新型 密封圈 可拆卸连接 安装过程 最小孔径 便捷性 磨损 相等 匹配 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括：气体分配盒和腔室本体，所述腔室本体具有至少两个螺纹孔，所述气体分配盒上设置有与所述螺纹孔相匹配的通孔，所述化学气相沉积装置还包括至少两个定位销，所述定位销通过所述螺纹孔与所述腔室本体可拆卸连接，所述定位销部分设置在所述气体分配盒上的通孔内，所述定位销设置在所述通孔内的部分的最大外径与所述通孔的最小孔径相等。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
