[实用新型]一种LPCVD真空加热腔室有效
申请号: | 201721709152.4 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN207596957U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 袁建辉 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 周放;逄京喜 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种LPCVD真空加热腔室,所述加热腔室内自上而下顺次设有加热装置、均热板和玻璃基板,所述加热腔室的腔壁上设有热量屏蔽装置,本实用新型通过在加热腔室的内部设置均热板,可以保证玻玻璃基板上的玻璃受热均匀,避免热量集中,同时在加热腔室的腔壁上设置热量屏蔽装置,可以将散逸到腔室壁上的热量反射回腔室内部,降低加热腔室内的热量损失,与现有技术相比,本实用新型的LPCVD真空加热腔室可以有效降低热量损失,保证加热腔室内处于合适的温度,降低加热腔室的加热成本。 | ||
搜索关键词: | 加热腔室 本实用新型 真空加热 加热腔 腔室 玻璃基板 热量屏蔽 热量损失 均热板 室内 腔壁 加热成本 加热装置 内部设置 腔室内部 热量反射 热量集中 受热均匀 腔室壁 保证 玻璃 | ||
【主权项】:
1.一种LPCVD真空加热腔室,其特征在于,所述加热腔室(1)内自上而下顺次设有加热装置(2)、均热板(3)和玻璃基板(4),所述加热腔室(1)的腔壁上设有热量屏蔽装置(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京铂阳顶荣光伏科技有限公司,未经北京铂阳顶荣光伏科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721709152.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的