[实用新型]一种旋转铬硅靶材有效
| 申请号： | 201721775065.9 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN207904355U | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 秦国强;常金永;张志祥 | 申请（专利权）人： | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷红梅 |
| 地址： | 214437 江苏省无锡市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于功能材料领域，涉及一种旋转铬硅靶材，其包括背管，背管外设有钎焊层，钎焊层外设有铬硅合金管；背管的一端设有内密封面和卡槽，背管的另一端设有定位槽和法兰。本实用新型安装方便省时，在长时间的工作过程中，能够稳定的旋转，均匀的溅射，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生；由于此靶材采用的是内密封方式，背管受力很小，几乎不会产生变形，避免了背管变形导致的靶材开裂现象。 | ||
| 搜索关键词： | 背管 靶材 本实用新型 钎焊层 铬硅 变形 功能材料领域 安装方便 铬硅合金 内密封面 定位槽 内密封 法兰 积瘤 溅射 卡槽 起弧 省时 受力 | ||
【主权项】：
1.一种旋转铬硅靶材，其特征在于，包括背管（1），背管（1）外设有钎焊层（6），钎焊层（6）外设有铬硅合金管（5）；背管（1）的一端设有内密封面（2）和卡槽（3），背管（1）的另一端设有定位槽（7）和法兰（8）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴恩特莱特镀膜科技有限公司，未经江阴恩特莱特镀膜科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201721775065.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：铬平面靶热等静压装置
- 下一篇：一种EMI真空磁控溅射镀膜设备
- 同类专利
- 专利分类
