[实用新型]用于三维集成电路封装的硅通孔转接板有效
申请号: | 201721776308.0 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN208385399U | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 尹晓雪 | 申请(专利权)人: | 江苏天康电子合成材料有限公司 |
主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538;H01L23/60;H01L27/02;H01L23/367 |
代理公司: | 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 | 代理人: | 苏雪雪 |
地址: | 225500 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于三维集成电路封装的硅通孔转接板,包括:Si基板(11);MOS管(12),设置于Si基板(11)内;隔离区(13),设置于MOS管(12)四周且上下贯通Si基板(11),用于对MOS管(12)进行隔离;TSV区(14),设置于MOS管(12)和隔离区(13)形成区域的两侧且上下贯通Si基板(11),TSV区(14)内的填充材料为铜;第一绝缘层(15),设置于Si基板(11)的上表面;第二绝缘层(16),设置于Si基板(11)的下表面;铜互连线(17),设置于Si基板(11)上,用于连接TSV区(14)的第一端面和MOS管(12);铜凸点(18),设置于TSV区(14)的第二端面上。本实用新型提供的硅通孔转接板通过在硅通孔转接板上设置MOS管,增强了层叠封装芯片的抗静电能力。 | ||
搜索关键词: | 硅通孔 转接板 绝缘层 三维集成电路 上下贯通 隔离区 封装 本实用新型 抗静电能力 层叠封装 填充材料 铜互连线 转接 上表面 下表面 凸点 隔离 芯片 | ||
【主权项】:
1.一种用于三维集成电路封装的硅通孔转接板,其特征在于,包括:Si基板(11);MOS管(12),设置于所述Si基板(11)内;隔离区(13),设置于所述MOS管(12)四周且上下贯通所述Si基板(11),用于对所述MOS管(12)进行隔离;TSV区(14),设置于所述MOS管(12)和所述隔离区(13)形成区域的两侧且上下贯通所述Si基板(11),所述TSV区(14)内的填充材料为铜;第一绝缘层(15),设置于所述Si基板(11)的上表面;第二绝缘层(16),设置于所述Si基板(11)的下表面;铜互连线(17),设置于所述第一绝缘层(15)内,用于连接所述TSV区(14)的第一端面和所述MOS管(12);铜凸点(18),设置于所述TSV区(14)的第二端面上。
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