[实用新型]一种单晶槽体的药液循环结构有效
| 申请号： | 201721783898.X | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN207760445U | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 张望望;储凤舞;张小刚 | 申请（专利权）人： | 太极能源科技(昆山)有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种单晶槽体的药液循环结构，适用于工业制造领域，公开了包括：一槽体，用于容置药液及单晶电池片，上部设有至少一溢流口；至少一溢流槽，设置于槽体上方靠近溢流口位置；一泵浦装置，设置于槽体外部，设有至少一泵浦吸入支路和多个泵浦吐出支路，每一泵浦吸入支路与一溢流槽连接，每一泵浦吐出支路通过管道伸入槽体内部，每一泵浦吐出支路上包括多个泵浦吐出口。上述技术方案的有益效果是：改良药液循环方式，保证实际生产，药液在槽体每个位置均能一直处于循环状态中，使单晶电池片充分地、均匀地浸润在药液中，以促进硅片与药液充分反应，并达到彻底清洗硅片脏污的目的，同时可以减少一定的反应时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 泵浦 槽体 支路 药液循环 吐出 单晶电池片 溢流槽 硅片 单晶 吸入 本实用新型 溢流口位置 泵浦装置 槽体内部 槽体外部 工业制造 生产效率 循环状态 吐出口 溢流口 容置 伸入 脏污 浸润 清洗 改良 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种单晶槽体的药液循环结构，其特征在于，包括：一槽体，所述槽体用于容置药液及单晶电池片，所述槽体上部设有至少一溢流口；至少一溢流槽，设置于所述槽体上方靠近所述溢流口位置；一泵浦装置，设置于所述槽体外部，所述泵浦装置设有至少一泵浦吸入支路和多个泵浦吐出支路，每一所述泵浦吸入支路与一所述溢流槽连接，每一泵浦吐出支路通过管道伸入所述槽体内部，每一泵浦吐出支路上包括多个泵浦吐出口。
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