[实用新型]一种原子层沉积自动镀膜装置有效
申请号: | 201721788583.4 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN207877856U | 公开(公告)日: | 2018-09-18 |
发明(设计)人: | 黎微明;杨玉峰;胡彬;李翔;左敏;濮一鹏 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/54 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 朱少华 |
地址: | 214028 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种原子层沉积自动镀膜装置,包括ALD反应器及自动上下料系统,所述自动上下料系统包括桨、抓舟机械手、舟平台滑动组件、载板、抓舟取盖天车、载具平移部组、硅片转移机构、花篮平移部组、花篮及舟;采用本实用新型的技术方案,可连续生产的ALD薄膜镀膜装置,自动化上下料系统使得硅片进入ALD反应器或者由ALD反应器取出,全部由机械完成,实现了自动化,避免了人工操作的繁琐重复的工序,大大提高了工作效率,完全满足光伏电池大批量工业化生产的要求。 | ||
搜索关键词: | 反应器 自动上下料系统 自动镀膜装置 本实用新型 原子层沉积 平移部 花篮 自动化 硅片转移机构 上下料系统 机械手 薄膜镀膜 工作效率 光伏电池 滑动组件 人工操作 天车 硅片 取盖 载板 载具 取出 重复 | ||
【主权项】:
1.一种原子层沉积自动镀膜装置,包括ALD反应器及自动上下料系统,其特征在于,所述自动上下料系统包括:花篮,花篮内放置硅片;花篮平移部组,将花篮在硅片转移机构处至上下料机最右端的上料处移转;花篮的上下料可采用人工操作或与自动化搬运小车对接;硅片转移机构,设置于花篮平移部组的上方,硅片转移机构将硅片在舟与花篮之间转移;舟平台滑动组件,其设置在ALD反应器的前端,其将舟在抓舟机械手下方的工位与抓舟取盖天车下方的工位之间移动;载具平移部组,其平行设置在舟平台滑动组件的两侧,舟在载具平移部组上平行放置;抓舟取盖天车,其设置在载具平移部组上方,其将舟在舟平台滑动组件与载具平移部组之间搬运;桨,设置在舟平台滑动组件的一侧,桨伸入ALD反应器腔体内将舟取出及放入;抓舟机械手,设置在舟平台滑动组件的另一侧与桨相对,其抓取桨上的舟放置在舟平台滑动组件上,或者抓取舟平台滑动组件上的舟放置在桨上;舟,舟内放置的硅片,舟进入ALD反应器内的腔体,在腔体内进行镀膜反应。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的