[实用新型]一种二极管酸洗装置有效
申请号: | 201721791767.6 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN208062026U | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 沈海斌 | 申请(专利权)人: | 南浔双林永欣电子元件厂 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人: | 朱月芬 |
地址: | 313014 浙江省湖州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种二极管酸洗装置,包括支架、酸洗槽和酸液箱,支架包括一体成型的下横架、第一竖架、上横架和第二竖架,酸液箱固定在上横架上,酸液箱设有内层和外层,内层和外层之间形成加热腔,加热腔的底部均布有加热管,内层底部外壁上安装有渗漏检测仪和温度计,酸液箱底部设有供液管,酸洗槽安装在下横架上,酸洗槽内卡有酸洗板,酸洗板上均布有插孔,酸洗板两端对称设有提杆,第一竖架和第二竖架上对称设有悬臂;本实用新型的二极管酸洗装置,保证了酸洗所需的温度,提高了酸洗的速度和效果,而且酸洗后及时将二极管上的残留酸去除,提高了安全性能,保证了良好的工作环境。 | ||
搜索关键词: | 二极管 酸液箱 竖架 酸洗装置 酸洗板 酸洗槽 内层 酸洗 本实用新型 加热腔 上横架 均布 支架 渗漏检测仪 一体成型的 安全性能 底部外壁 两端对称 温度计 供液管 下横架 插孔 横架 内卡 热管 提杆 悬臂 去除 对称 残留 保证 | ||
【主权项】:
1.一种二极管酸洗装置,其特征在于:包括支架(1)、酸洗槽(2)和酸液箱(3),所述支架(1)包括一体成型的下横架(11)、第一竖架(12)、上横架(13)和第二竖架(14),所述酸液箱(3)固定在上横架(13)上,所述酸液箱(3)设有内层(31)和外层(32),所述内层(31)和外层(32)之间形成加热腔(33),所述加热腔(33)的底部均布有加热管(4),所述内层(31)底部外壁上安装有渗漏检测仪(5)和温度计(6),所述酸液箱(3)底部设有供液管(7),所述酸洗槽(2)安装在下横架(11)上,所述酸洗槽(2)内卡有酸洗板(21),所述酸洗板(21)上均布有插孔(211),所述酸洗板(21)两端对称设有提杆(212),所述第一竖架(12)和第二竖架(14)上对称设有悬臂(8)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南浔双林永欣电子元件厂,未经南浔双林永欣电子元件厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721791767.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种太阳能背板保护膜的复卷检查装置
- 下一篇:一种硅晶片的清洗工件
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造