[实用新型]一种线栅偏振器的制造系统有效
| 申请号： | 201721817549.5 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN208399717U | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 刘全;吴建宏 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215104 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种线栅偏振器的制造系统，包括镀膜机、光刻涂胶机、PECVD装置、干法刻蚀机、离子束刻蚀机、全息光刻系统、以及与所述全息光刻系统结合设置的光学对准装置，采用层叠刻蚀的方式逐层制造线栅，采用全息光刻方法逐层制作光刻胶掩模，并采用离子束刻蚀方法实现掩模转移，并利用光学莫尔条纹方法将从第二层开始的光栅与第一层的光栅进行对准，制造高深宽比结构的线栅。 | ||
| 搜索关键词： | 全息光刻系统 线栅偏振器 光栅 制造系统 光刻 离子束刻蚀机 本实用新型 干法刻蚀机 光刻胶掩模 离子束刻蚀 方式逐层 高深宽比 光学对准 莫尔条纹 第一层 镀膜机 涂胶机 制造线 全息 刻蚀 线栅 掩模 对准 制作 制造 | ||
【主权项】：
1.一种线栅偏振器的制造系统，其特征在于，包括镀膜机、光刻涂胶机、PECVD装置、干法刻蚀机、离子束刻蚀机、全息光刻系统、以及与所述全息光刻系统结合设置的光学对准装置，所述镀膜机用于在一基片上镀制一金属膜层，所述光刻涂胶机用于在金属膜层上涂布光刻胶，所述全息光刻系统用于在光刻胶上制作光刻胶掩模，采用离子束刻蚀机实现掩模转移，在金属膜层上形成沟槽，所述PECVD装置用于在沟槽内填入硅材料，所述干法刻蚀机用于去除硅材料，所述离子束刻蚀机还用于对制作区表面进行抛光，所述光学对准装置用于进行光栅对准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学，未经苏州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201721817549.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
