[实用新型]一种电动汽车用IGBT或MOSFET版图结构有效
申请号: | 201721818444.1 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN207601502U | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 井亚会;戚丽娜;俞义长;张景超;林茂;刘利峰;赵善麒 | 申请(专利权)人: | 江苏宏微科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/50 | 分类号: | G03F1/50;G03F1/60 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 邓娜 |
地址: | 213000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型属于电动汽车晶体管技术领域,尤其涉及一种电动汽车用IGBT或MOSFET版图结构。其包括IGBT或MOSFET版,所述IGBT或MOSFET版上间隔设置若干列沟槽,所述同一列沟槽重复断开,所述同一列沟槽断开间距0.6um,所述同一列沟槽断开间距的中间设置发射极接触孔,所述发射极接触孔与相邻所述沟槽之间的间距0.2um,相邻两列所述沟槽错位设置并横向连接,相邻两列所述沟槽之间的间距为0.2um。本实用新型通过沟槽以及发射极接触孔的版图设计使得元胞尺寸缩小,沟道密度增加,从而电流密度大大提高,IGBT或MOSFET的芯片尺寸可大大减小,从而成本降低,同时整个设计的余量也会更加充分。 | ||
搜索关键词: | 发射极接触孔 电动汽车 同一列 断开 本实用新型 版图结构 相邻两列 晶体管技术 版图设计 尺寸缩小 错位设置 横向连接 间隔设置 密度增加 中间设置 沟道 减小 元胞 芯片 重复 | ||
【主权项】:
1.一种电动汽车用IGBT或MOSFET版图结构,其特征在于:包括IGBT或MOSFET版,所述IGBT或MOSFET版上间隔设置若干列沟槽,所述同一列沟槽重复断开,所述同一列沟槽断开间距0.6um,所述同一列沟槽断开间距的中间设置发射极接触孔,所述发射极接触孔与相邻所述沟槽之间的间距为0.2um,相邻两列所述沟槽错位设置并横向连接,相邻两列所述沟槽之间的间距为0.2um。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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