[实用新型]一种晶体提拉炉控制系统有效
申请号: | 201721844842.0 | 申请日: | 2017-12-26 |
公开(公告)号: | CN207650667U | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 杨建春 | 申请(专利权)人: | 上海翌波光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G05D23/20 | 分类号: | G05D23/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种晶体提拉炉控制系统,包括提拉炉壳体,所述提拉炉壳体的内腔下端设有支撑块,所述支撑块的上端放置有坩埚,所述坩埚包括内层、石英层和石墨层,所述坩埚的上部设有晶体,所述晶体的上端设有钢丝,所述钢丝的上端与提拉转轴相连,所述提拉炉壳体的左侧上部插接有光感应壳体,所述光感应壳体的进光口设有聚光凸镜,所述光感应壳体的内腔左侧设有反光镜,所述光感应壳体的内腔左端中部固定设有光照传感器,所述提拉炉壳体的内腔侧壁设有温度传感器。该晶体提拉炉控制系统,通过光照传感器和聚光凸镜的结构,提高了设备制备晶体的效率;通设有坩埚的结构,使得晶体的制制备更加快速。 | ||
搜索关键词: | 壳体 光感应 提拉炉 坩埚 晶体提拉炉 控制系统 上端 晶体的 内腔 光照传感器 聚光凸镜 制备 钢丝 反光镜 本实用新型 温度传感器 内腔侧壁 进光口 石墨层 石英层 插接 内层 提拉 下端 支撑 转轴 左端 | ||
【主权项】:
1.一种晶体提拉炉控制系统,包括提拉炉壳体(1),其特征在于:所述提拉炉壳体(1)的内腔下端设有支撑块(2),所述支撑块(2)的上端放置有坩埚(3),所述坩埚(3)包括内层(31)、石英层(33)和石墨层(32),所述坩埚(3)的上部设有晶体(4),所述晶体(4)的上端设有钢丝(10),所述钢丝(10)的上端与提拉转轴(16)相连,所述提拉炉壳体(1)的左侧上部插接有光感应壳体(5),所述光感应壳体(5)的进光口设有聚光凸镜(8),所述光感应壳体(5)的内腔左侧设有反光镜(7),所述光感应壳体(5)的内腔左端中部固定设有光照传感器(6),所述提拉炉壳体(1)的内腔侧壁设有温度传感器(19),所述提拉炉壳体(1)的上端进出口处设有支撑板(13),所述支撑板(13)的中部开有圆孔(9),所述圆孔(9)的侧壁上固定连接有滑轮(11),所述滑轮(11)上开有滑槽(12),所述钢丝(10)卡在滑槽(12)内,所述支撑板(13)的上端设有动力室壳体(14),所述动力室壳体(14)的后侧通过转轴连接提拉转轴(16),所述提拉转轴(16)右端的转轴与电动机(18)相连,所述电动机(18)的转轴上设有转速传感器(17),所述动力室壳体(14)的上端中部开有透光板(15),所述光照传感器(6)、转速传感器(17)和温度传感器(19)均通过AD转换器(20)与中央处理器(21)电性串联,所述中央处理器(21)与报警器(23)、显示屏(22)、储存器(24)、电源(26)和电机驱动电路(25)电性串联。
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