[实用新型]一种双层点焊式电极掩模有效

专利信息
申请号: 201721847790.2 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN207368994U 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: 杨春林;奉建华 申请(专利权)人: 东晶锐康晶体(成都)有限公司
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/19
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 610041 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种双层点焊式电极掩模,它包括上掩模板(1)、下掩模板(2)和晶片定位模(3),所述上掩模板(1)和下掩模板(2)上均开设有呈阵列分布的电极槽孔(4),晶片定位模(3)上开设有呈阵列分布的晶片安装槽(5),所述下掩模板(2)的外边缘与晶片定位模(3)的外边缘平齐,下掩模板(2)的外边缘与晶片定位模(3)之间经点焊焊接于一体,相邻两个晶片安装槽(5)之间均分布焊接点(6)。本实用新型的有益效果是:结构紧凑、提高调整效率、也减少了特制治具的投入、避免出现的夹杂金属屑多层不能完全重合现象。
搜索关键词: 一种 双层 点焊 电极
【主权项】:
1.一种双层点焊式电极掩模,其特征在于:它包括上掩模板(1)、下掩模板(2)和晶片定位模(3),所述上掩模板(1)和下掩模板(2)上均开设有呈阵列分布的电极槽孔(4),晶片定位模(3)上开设有呈阵列分布的晶片安装槽(5),所述下掩模板(2)的外边缘与晶片定位模(3)的外边缘平齐,下掩模板(2)的外边缘与晶片定位模(3)之间经点焊焊接于一体,相邻两个晶片安装槽(5)之间均分布焊接点(6),焊接点(6)还沿着晶片定位模(3)的边缘分布,下掩模板(2)上的电极槽孔(4)与晶片安装槽(5)相对应,所述上掩模板(1)盖合在晶片定位模(3)顶表面,上掩模板(1)的边缘与晶片定位模(3)的边缘平齐,且上掩模板(1)上的电极槽孔(4)与晶片安装槽(5)连通。
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