[实用新型]一种多芯片扇出型封装结构

摘要

本实用新型一种多芯片扇出型封装结构，属于半导体封装技术领域。其包括带有A芯片金属凸块的A芯片、布线层、A芯片包覆膜和带有B芯片金属凸块的B芯片、再布线层、B芯片包覆膜，B芯片设置于A芯片垂直上方区域，B芯片外侧区域设置穿孔，填充金属料，A芯片与B芯片通过包覆穿孔填充金属料、布线层、再布线层完成信号互联。所述再布线层上方设置钝化保护层和金属连接件，生成最终的封装体。本实用新型提高了产品的可靠性,提升了产品的力学性能。

主权项

1.一种多芯片扇出型封装结构，其特征在于，其包括正面设置若干个A芯片金属凸块的A芯片、A芯片包覆膜和带有若干个B芯片金属凸块的B芯片、B芯片包覆膜，所述B芯片设置在A芯片的垂直上方区域，所述A芯片有若干个，所述B芯片有若干个；所述A芯片金属凸块一侧设置布线层，所述布线层水平延展并选择性不连续并选择性不连续并选择性不连续，A芯片通过A芯片金属凸块与布线层连接；所述A芯片包覆膜将A芯片及其A芯片金属凸块、布线层包覆保护，布线层的上表面与A芯片包覆膜的上表面齐平；所述布线层的上表面与A芯片包覆膜的上表面覆盖包覆膜，所述B芯片下方设置装片膜，B芯片通过装片膜完成与包覆膜的固定连接；所述B芯片包覆膜包覆B芯片及其B芯片金属凸块，露出B芯片金属凸块的顶部；所述B芯片的外侧区域设置包覆穿孔，包覆穿孔的底部直达布线层的上表面，包覆穿孔内填充金属焊料，所述B芯片金属凸块顶部与包覆穿孔填充的金属焊料顶部齐平，所述B芯片包覆膜、B芯片金属凸块与包覆穿孔填充的金属焊料上方设置再布线层，所述再布线层水平延展并选择性不连续并选择性不连续并选择性不连续，所述A芯片与B芯片通过包覆穿孔内填充的金属焊料、布线层、再布线层完成信号互联；所述再布线层上方设置钝化保护层和金属连接件。