[实用新型]一种气相沉积设备有效
申请号: | 201721890318.7 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN207845775U | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | 崔日 | 申请(专利权)人: | 崔日 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人: | 葛钟 |
地址: | 133100 吉林省延*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于气相沉积技术领域,具体涉及一种气相沉积设备;其包括驱动装置、腔体和设置在所述腔体内部的基座、喷淋头和至少三个顶杆;所述腔体的底部设置有穿孔,所述驱动装置穿过所述穿孔与所述基座传动连接;所述喷淋头设置在所述基座的上方,所述基座上设置有与所述顶杆的数量相匹配的通孔,所述顶杆的底端穿过所述通孔并竖直的设置在所述腔体的底面,所述顶杆的顶端设置有石墨涂层。该气相沉积设备中的顶杆的顶部表面设置有石墨涂层,因为石墨涂层的导热性良好,使顶杆与沉积体之间的温差最小化,从而减小沉积体与顶杆接触的位置的印痕。 | ||
搜索关键词: | 顶杆 石墨涂层 腔体 沉积设备 驱动装置 沉积体 喷淋头 穿孔 通孔 导热性 气相沉积设备 穿过 本实用新型 传动连接 顶部表面 顶端设置 气相沉积 腔体内部 最小化 底端 底面 减小 竖直 印痕 温差 匹配 | ||
【主权项】:
1.一种气相沉积设备,其特征在于:包括驱动装置、腔体(1)和设置在所述腔体(1)内部的基座(2)、喷淋头(4)和至少三个顶杆(5);所述腔体(1)的底部设置有穿孔,所述驱动装置穿过所述穿孔与所述基座(2)传动连接;所述喷淋头(4)设置在所述基座(2)的上方,所述基座(2)上设置有与所述顶杆(5)的数量相匹配的通孔,所述顶杆(5)的底端穿过所述通孔并竖直的设置在所述腔体(1)的底面,所述顶杆(5)的顶端设置有石墨涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于崔日,未经崔日许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721890318.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备
- 下一篇:一种MOCVD设备
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的