[实用新型]一种低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备

摘要

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备。所述低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备包括真空腔体，在真空腔体内设置平面靶、工件转架系统、恒流离化装置、加热温控系统和工艺气体加入分配系统，所述真空腔体的顶部设置有锥形炉顶，在锥形炉顶上端设有沉积抽气口。所述低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备可在沉积类金刚石碳膜时，将真空腔体中氢原子、氢气、氢离子等密度轻的气体优先从上部抽出，从而使沉积到工件的类金刚石碳膜中含氢量低，达到生产低氢含量的类金刚石碳膜的目的。

主权项

1.一种低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备，其特征在于：包括真空腔体，在真空腔体的内侧以真空腔体中心为圆心的45°、135°、225°和315°方向分别设有一平面靶；在真空腔体内部设置有呈圆环形的工件转架系统，在所述工件转架系统内侧与外侧设置有相对的恒流离化装置；所述工件转架系统等距水平设置有若干圆形的工件挂架；所述低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备还包括加热温控系统和工艺气体加入分配系统；所述工件转架系统两侧均匀布设若干加热管和若干等高的气管，所述气管从真空腔体的底部伸入真空腔体；所述加热管与加热温控系统连通，所述气管与工艺气体加入分配系统连通；所述真空腔体的顶部设置有锥形炉顶，在锥形炉顶上端设有沉积抽气口；所述低氢含量的类金刚石碳膜沉积设备还包括真空抽气系统，所述真空抽气系统通过管道与所述沉积抽气口相连。