[发明专利]光成像装置在审
| 申请号： | 201780001105.0 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN108027522A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 绳田晃史;粟屋信义;田中觉 | 申请（专利权）人： | SCIVAX株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22;G02B5/124;G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 梁海莲;余明伟 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种虚像的明度较高、制造简单且低成本的光成像装置。所述光成像装置主要包括：使P偏光透过而反射S偏光的偏振镜(2)；将透过偏振镜(2)的P偏光和由偏振镜(2)反射的S偏光中的任一方或两方变换成圆偏光或楕圆偏光的相位差元件(3)；以及使通过相位差元件(3)的光回射的回射元件(4)。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光成像装置，其用于形成被投影物的实像，所述光成像装置的特征在于，具备：偏振镜，其使P偏光透过而反射S偏光；相位差元件，其将所述P偏光或所述S偏光变换成圆偏光或楕圆偏光；以及回射板，其使通过所述相位差元件的光回射。
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