[发明专利]半导体加工片有效

专利信息
申请号: 201780003713.5 申请日: 2017-01-25
公开(公告)号: CN108243615B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 中村优智;安达一政 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: C09J7/20 分类号: C09J7/20;C09J201/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;谢顺星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体加工片,其具备基材膜、以及层叠于基材膜的至少一面侧的粘着剂层,其特征在于,基材膜含有氯乙烯类树脂和作为增塑剂的己二酸酯类增塑剂及对苯二甲酸酯类增塑剂,在基材膜中,己二酸酯类增塑剂的含量相对于己二酸酯类增塑剂及对苯二甲酸酯类增塑剂的合计含量的质量比率为50~80质量%。根据该半导体加工片,虽然使用邻苯二甲酸烷基酯的代替物质作为增塑剂,但也能够显示充分的柔软性、且能够在从被粘着物上剥离时抑制残渣物的产生。
搜索关键词: 半导体 加工
【主权项】:
1.一种半导体加工片,其具备基材膜、以及层叠于所述基材膜的至少一面侧的粘着剂层,其特征在于,所述基材膜含有氯乙烯类树脂和作为增塑剂的己二酸酯类增塑剂及对苯二甲酸酯类增塑剂,在所述基材膜中,所述己二酸酯类增塑剂的含量相对于所述己二酸酯类增塑剂及所述对苯二甲酸酯类增塑剂的合计含量的质量比率为50~80质量%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于琳得科株式会社,未经琳得科株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780003713.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top