[发明专利]形成抗蚀剂图案的方法有效
| 申请号： | 201780004501.9 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN108369378B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 星野学 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/20;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 赵曦;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的目的在于使用包含聚合物的抗蚀剂组合物而良好地形成清晰的抗蚀剂图案，上述聚合物能够在作为主链切断型的正性抗蚀剂而使用时抑制抗蚀剂图案的塌陷的发生。本发明的形成抗蚀剂图案的方法的特征在于，包含使用包含聚合物的正性抗蚀剂组合物而形成抗蚀剂膜的工序、曝光工序及显影工序，使用表面张力为17mN/m以下的显影液进行显影，上述聚合物具有下述的通式(I)所示的单体单元(A)和通式(II)所示的单体单元(B)，单体单元(A)和单体单元(B)的至少一者具有一个以上氟原子。 |
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| 搜索关键词： | 形成 抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成抗蚀剂图案的方法，包含以下工序：使用正性抗蚀剂组合物而形成抗蚀剂膜的工序；对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及对所述曝光了的抗蚀剂膜进行显影的工序，使用表面张力为17mN/m以下的显影液而进行所述显影，所述正性抗蚀剂组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物具有下述通式(I)所示的单体单元A和下述通式(II)所示的单体单元B，所述单体单元A和所述单体单元B的至少一者具有一个以上氟原子，![]()
式(I)中，R1为氯原子、氟原子或被氟原子取代的烷基，R2为非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，R3和R4为氢原子、氟原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，可以彼此相同也可以不同，![]()
式(II)中，R5、R6、R8及R9为氢原子、氟原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，可以彼此相同也可以不同，R7为氢原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基，p和q为0以上且5以下的整数，p+q＝5。
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