[发明专利]光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780004702.9 申请日: 2017-03-08
公开(公告)号: CN108369311B 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 后藤正直;须崎吾郎;田中大直 申请(专利权)人: JXTG能源株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C23C14/02;C23C16/02;G11B7/1367
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 光学相位差构件100具备:透明基体40,其具有凹凸图案80;被覆层30,其被覆上述凹凸图案80的凹部70及凸部60;间隙部90,其被隔于由上述被覆层30被覆的上述凹凸图案80的上述凸部60之间;及密闭层20,其以连结上述凹凸图案80的上述凸部60的顶部60t且密闭上述间隙部90的方式,设置于上述凹凸图案80的上部;且于波长550nm,上述凸部60的折射率n1及上述被覆层30的折射率n2满足n2-n1≦0.8。光学相位差构件100具有逆频散的相位差特性,并且视野角宽广。
搜索关键词: 光学 相位差 构件 具备 复合 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学相位差构件,其特征在于,其具备:透明基体,其具有凹凸图案;被覆层,其被覆所述凹凸图案的凹部及凸部;间隙部,其被隔于由所述被覆层被覆的所述凹凸图案的所述凸部之间;及密闭层,其以连结所述凹凸图案的所述凸部的顶部且密闭所述间隙部的方式,设置于所述凹凸图案的上部;且于波长550nm,所述凸部的折射率n1及所述被覆层的折射率n2满足n2-n1≦0.8。
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