[发明专利]集成光电检测器有效

专利信息
申请号: 201780008263.9 申请日: 2017-02-06
公开(公告)号: CN108575098B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: D·巴苏;H·L·爱德华兹;R·A·杰克逊;M·A·加德纳 申请(专利权)人: 德克萨斯仪器股份有限公司
主分类号: H01L31/052 分类号: H01L31/052;H01L31/0232;H01L31/103;G01J1/02;G01J1/04;G01J1/42
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 徐东升;赵蓉民
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在所描述的示例中,集成电路(100)包括基板(102)、光电二极管(110)和菲涅耳结构(120)。光电二极管(110)形成在基板(102)上,并且光电二极管(110)具有p‑n结(116)。菲涅耳结构(120)形成在光电二极管(110)上方,并且菲涅耳结构(120)限定定位在p‑n结(116)的附近区域内的聚焦区(122)。一方面,菲涅耳结构(120)可以包括充当衍射装置的沟槽图案(132、134、136、138)以用于将入射光子重定向并且集中到聚焦区(124)。另一方面,菲涅耳结构(120)可以包括充当衍射装置的布线图案以用于将入射光子重定向并且集中到聚焦区(122)。又一方面,菲涅耳结构(120)可以包括充当折射装置的透明电介质图案以用于将入射光子重定向并且集中到聚焦区(122)。
搜索关键词: 集成 光电 检测器
【主权项】:
1.一种集成电路,包括:基板;光电二极管,所述光电二极管形成在所述基板上,所述光电二极管具有p‑n结;以及菲涅耳结构,所述菲涅耳结构形成在所述光电二极管上方,所述菲涅耳结构限定定位在所述p‑n结的附近区域内的聚焦区。
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