[发明专利]多孔径成像设备、成像系统以及用于检测目标区域的方法

摘要

一种多孔径成像设备包括：至少一个图像传感器；彼此并置的光学通道的阵列，其中每个光学通道具有用于将目标区域的至少一个子区域投影在图像传感器的图像传感器区域上的光学单元；以及光束偏转装置，用于使光学通道的光束路径在光束偏转装置的光束偏转区域中偏转。光束偏转装置形成为沿光学通道的阵列的行延伸方向布置的琢面的阵列。每个光学通道被分配有琢面。每个琢面具有光束偏转区域。杂散光抑制结构被布置在第一琢面的第一光束偏转区域与相邻设置的第二琢面的第二光束偏转区域之间，该结构被设计为减少第一光束偏转区域与第二光束偏转区域之间的杂散光的迁移。

主权项

1.一种多孔径成像设备(11；1000；2000；3000；4000；4000’；5000；6000)，包括：至少一个图像传感器(12；12a‑h)；以及并置光学通道(16a‑h)的阵列(14)，其中每个光学通道(16a‑d)包括用于将目标区域(26；72)的至少一个部分区域(74a‑d)投影在所述图像传感器(12；12a‑h)的图像传感器区域(58a‑d)上的光学器件(16a‑h)；光束偏转装置(18)，用于使所述光学通道(16a‑d)的光学路径(22a‑d)在所述光束偏转装置(18)的光束偏转区域(1002a‑c)中偏转；其中所述光束偏转装置(18)形成为沿所述光学通道(16a‑d)的阵列(14)的行延伸方向(z；146)布置的琢面(68a‑d；68i)的阵列，并且其中向每个光学通道(16a‑d)分配一个琢面(68a‑d；68i)并且其中每个琢面包括至少一个光束偏转区域(1002a‑c)；其中杂散光抑制结构(1004a)被布置在第一琢面(68a)的第一光束偏转区域(1002a)与并置的第二琢面(68b)的第二光束偏转区域(1002b)之间，所述杂散光抑制结构被配置为减少杂散光在第一光束偏转区域(1002a)与第二光束偏转区域(1002b)之间的迁移。