[发明专利]具有IV族半导体作为底部结的多结光电子器件在审

专利信息
申请号: 201780008978.4 申请日: 2017-01-27
公开(公告)号: CN108604620A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 布兰登·M·卡耶斯;何甘 申请(专利权)人: 奥塔装置公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0725;H01L31/0687;H01L33/00
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种多结光电子器件(200)和制造方法。该方法包括在衬底(212)上提供第一p‑n结构(208),其中第一p‑n结构包括具有第一带隙的第一半导体的第一基极层,使得第一半导体的晶格常数与衬底的晶格常数匹配,并且其中第一半导体包括III‑V族半导体。该方法包括提供第二p‑n结构(206),其中第二p‑n结构包括具有第二带隙的第二半导体的第二基极层,其中第二半导体的晶格常数与第一半导体的晶格常数匹配,并且其中第二半导体包括IV族半导体。该方法还包括从衬底剥离具有第一p‑n结构和第二p‑n结构的多结光电子器件,其中多结光电器子件是柔性器件。
搜索关键词: 半导体 晶格常数 多结光电子器件 基极层 衬底 带隙 匹配 衬底剥离 柔性器件 光电器 多结 子件 制造
【主权项】:
1.一种制造多结光电子器件的方法,该方法包括:在衬底上提供第一p‑n结构,其中所述第一p‑n结构包括具有第一带隙的第一半导体的第一基极层,使得所述第一半导体的晶格常数与所述衬底的晶格常数匹配,并且其中所述第一半导体包括III‑V族半导体;在所述第一p‑n结构上提供第二p‑n结构,其中所述第二p‑n结构包括具有第二带隙的第二半导体的第二基极层,其中所述第二半导体的晶格常数与所述第一半导体的晶格常数匹配,并且其中所述第二半导体包括IV族半导体;和将所述多结光电子器件从所述衬底上剥离,其中所述多结光电子器件包括所述第一p‑n结构和所述第二p‑n结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥塔装置公司,未经奥塔装置公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780008978.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top