[发明专利]具有IV族半导体作为底部结的多结光电子器件在审
申请号: | 201780008978.4 | 申请日: | 2017-01-27 |
公开(公告)号: | CN108604620A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 布兰登·M·卡耶斯;何甘 | 申请(专利权)人: | 奥塔装置公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0725;H01L31/0687;H01L33/00 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种多结光电子器件(200)和制造方法。该方法包括在衬底(212)上提供第一p‑n结构(208),其中第一p‑n结构包括具有第一带隙的第一半导体的第一基极层,使得第一半导体的晶格常数与衬底的晶格常数匹配,并且其中第一半导体包括III‑V族半导体。该方法包括提供第二p‑n结构(206),其中第二p‑n结构包括具有第二带隙的第二半导体的第二基极层,其中第二半导体的晶格常数与第一半导体的晶格常数匹配,并且其中第二半导体包括IV族半导体。该方法还包括从衬底剥离具有第一p‑n结构和第二p‑n结构的多结光电子器件,其中多结光电器子件是柔性器件。 | ||
搜索关键词: | 半导体 晶格常数 多结光电子器件 基极层 衬底 带隙 匹配 衬底剥离 柔性器件 光电器 多结 子件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种制造多结光电子器件的方法,该方法包括:在衬底上提供第一p‑n结构,其中所述第一p‑n结构包括具有第一带隙的第一半导体的第一基极层,使得所述第一半导体的晶格常数与所述衬底的晶格常数匹配,并且其中所述第一半导体包括III‑V族半导体;在所述第一p‑n结构上提供第二p‑n结构,其中所述第二p‑n结构包括具有第二带隙的第二半导体的第二基极层,其中所述第二半导体的晶格常数与所述第一半导体的晶格常数匹配,并且其中所述第二半导体包括IV族半导体;和将所述多结光电子器件从所述衬底上剥离,其中所述多结光电子器件包括所述第一p‑n结构和所述第二p‑n结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥塔装置公司,未经奥塔装置公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780008978.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的