[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效
申请号: | 201780009904.2 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN108604547B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 高木康弘;梅野慎一;永井高志;守田寿;绪方信博;高松祐助;东岛治郎 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 实施方式所涉及的基板处理装置具备贮存容器、基板处理部、回收路径、废弃路径、供给路径、切换部和切换控制部。回收路径使供给到基板处理部的混合液返回到贮存容器。废弃路径将所供给的混合液废弃到贮存容器以外的场所。切换部使所供给的混合液的流入目的地在回收路径与废弃路径之间切换。切换控制部对切换部进行控制,使得在从基板处理部开始供给混合液起到第一时间经过的期间,使所供给的混合液向废弃路径流入,在第一时间经过后且到基于预先决定的回收率决定的第二时间经过为止的期间,使所供给的混合液向回收路径流入,在从第二时间经过起到混合液的供给结束为止的期间,使所供给的混合液向废弃路径流入。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理装置,具备:贮存容器,其用于贮存第一处理液;基板处理部,其通过将第二处理液与从所述贮存容器供给的所述第一处理液的混合液向基板供给来对所述基板进行处理;回收路径,其用于使供给到所述基板处理部的混合液返回到所述贮存容器;废弃路径,其用于将所供给的所述混合液废弃到所述贮存容器以外的场所;供给路径,其用于将所述第一处理液供给到所述贮存容器;切换部,其使所供给的所述混合液的流入目的地在所述回收路径与所述废弃路径之间切换;切换控制部,其对所述切换部进行控制,使得在从所述基板处理部开始向所述基板供给所述混合液起到第一时间经过为止的期间,使所供给的所述混合液向所述废弃路径流入,在所述第一时间经过后且到基于预先决定的回收率决定的第二时间经过为止的期间,使所供给的所述混合液向所述回收路径流入,在从所述第二时间经过起到所述混合液的供给结束为止的期间,使所供给的所述混合液向所述废弃路径流入。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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