[发明专利]有机金属化合物及其方法

摘要

本发明提供了一类有机金属化合物。所述化合物在结构上对应于式1：(A)_X‑M‑(OR³)_4‑x其中：A选自由‑NR¹R²、‑N(R⁴)(CH₂)_nN(R⁵R⁶)、‑N＝C(NR⁴R⁵)(NR⁶R⁷)、OCOR¹、卤素和Y组成的组；R¹和R²独立地选自由H和具有1至8个碳原子的环状或无环烷基组成的组，条件是R¹和R²中的至少一个必须不是H；R⁴，R⁵，R⁶和R⁷独立地选自由H和具有1至4个碳原子的无环烷基组成的组；Y选自由含有至少一个氮原子的3‑至13‑元杂环自由基组成的组；R³是具有1至6个碳原子的环状或无环烷基；M选自由Si、Ge、Sn、Ti、Zr和Hf组成的组；x是1至3的整数；以及n是1至4的整数。本发明化合物可用作化学相沉积方法，诸如原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体辅助ALD和等离子体辅助CVD中的前驱体。本发明还提供了低温气相沉积金属氧化物薄膜诸如SiO₂薄膜的方法。

主权项

1.式1的有机金属化合物：(A)X‑M‑(OR3)4‑x其中：A选自由‑NR1R2、‑N(R4)(CH2)nN(R5R6)、‑N＝C(NR4R5)(NR6R7)、OCOR1、卤素和Y组成的组；R1和R2独立地选自由H和具有1至8个碳原子的环状或无环烷基组成的组，条件是R1和R2中的至少一个必须不是H；R4，R5，R6和R7独立地选自由H和具有1至4个碳原子的无环烷基组成的组；Y选自由含有至少一个氮原子的3‑至13‑元杂环自由基组成的组；R3是具有1至6个碳原子的环状或无环烷基；M选自由Si、Ge、Sn、Ti、Zr和Hf组成的组；x是1至3的整数；以及n是1至4的整数。