[发明专利]核壳型多孔性二氧化硅粒子的制造方法在审
| 申请号： | 201780011843.3 | 申请日： | 2017-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN108698838A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 今野干男;长尾大辅;石井治之;菅野新;桥本佑里 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学;株式会社大赛璐 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供核壳型多孔性二氧化硅粒子的制造方法，其包括：准备包含无孔性二氧化硅粒子、阳离子型表面活性剂、碱性催化剂、含有疏水部的添加物及醇的水溶液的准备工序；向该水溶液添加二氧化硅源，在上述无孔性二氧化硅粒子的表面形成壳前体的壳前体形成工序；以及从该壳前体除去含有疏水部的添加物及阳离子型表面活性剂，形成多孔性的壳的壳形成工序。 | ||
| 搜索关键词： | 壳前体 阳离子型表面活性剂 多孔性二氧化硅 二氧化硅粒子 添加物 核壳型 无孔性 粒子 二氧化硅源 碱性催化剂 表面形成 形成工序 多孔性 壳形成 制造 | ||
【主权项】：
1.核壳型多孔性二氧化硅粒子的制造方法，其包括：准备工序：准备包含无孔性二氧化硅粒子、阳离子型表面活性剂、碱性催化剂、醇、及含有疏水部的添加物的水溶液；壳前体形成工序：向该水溶液中添加二氧化硅源，在所述无孔性二氧化硅粒子的表面形成壳前体；以及壳形成工序：从该壳前体除去含有疏水部的添加物及阳离子型表面活性剂，形成多孔性的壳。
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