[发明专利]制备硅的方法在审
| 申请号： | 201780013193.6 | 申请日： | 2017-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN108778995A | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | P·吉格莱尔 | 申请（专利权）人： | 瓦克化学股份公司 |
| 主分类号： | C01B33/023 | 分类号： | C01B33/023;C01F5/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 彭丽丹;过晓东 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及通过二氧化硅的镁热还原制备硅的方法，其特征在于，使用包含二氧化硅(SiO2)、镁(Mg)和作为慢化剂的BET表面积≤40m2/g的氧化镁(MgO)的反应物混合物用于镁热还原。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 镁热还原 制备 反应物混合物 慢化剂 氧化镁 | ||
【主权项】：
1.一种通过二氧化硅的镁热还原制备硅的方法，其特征在于，为了实现镁热还原，使用包含二氧化硅、镁和作为慢化剂的氧化镁的反应物混合物，所述氧化镁具有≤40m2/g的BET表面积。
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