[发明专利]被膜形成用组合物及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780014240.9 申请日: 2017-03-27
公开(公告)号: CN108698851B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 加藤拓;铃木正睦;村上夏美;饭岛大贵;古川智规;小山欣也 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: C01G23/047 分类号: C01G23/047;C01G23/04;C09D183/02;C09D183/04;C09D185/00;G02B1/10;G02B3/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 孙丽梅;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请发明提供被膜形成用组合物及其制造方法,上述被膜形成用组合物是包含水解性硅烷的水解缩合物和实施了特殊的分散处理的无机微粒的涂布组合物,其耐热性和透明性高,表现高折射率,同时能够厚膜化,被膜形成用组合物的保存稳定性优异。
搜索关键词: 形成 组合 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种被膜形成用组合物,其包含(A)成分和(B)成分,所述(A)成分是下述式(1)所示的至少1种水解性硅烷的水解缩合物,R2aSi(OR1)4‑a   式(1)式中,R1为碳原子数1~6的烷基,R2为碳原子数1~18的烷基或碳原子数6~18的芳基,a为0~3的整数;所述(B)成分是在具有2~100nm的一次粒径的改性金属氧化物胶体粒子(B3)的表面结合有两亲性有机硅化合物的无机微粒,所述改性金属氧化物胶体粒子(B3)以具有2~60nm的一次粒径的金属氧化物胶体粒子(B1)作为核,并对其表面用由具有1~4nm的一次粒径的金属氧化物胶体粒子构成的被覆物(B2)进行了被覆,所述两亲性有机硅化合物具有选自聚氧亚乙基、聚氧亚丙基和聚氧亚丁基中的1种以上聚(氧亚烷基)作为亲水性基、并具有选自碳原子数1~18的亚烷基或亚乙烯基中的1种以上基团作为疏水性基。
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