[发明专利]用于高分辨率地局部成像样品中的结构的方法有效
| 申请号： | 201780016034.1 | 申请日： | 2017-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN108780045B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | S·W·黑尔;F·格特费尔特;V·韦斯特法尔 | 申请（专利权）人： | 马克斯-普朗克科学促进学会 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 郭毅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了高分辨率地成像样品中的借助冷光标记物标记的结构，使对冷光标记物发射冷光产生影响的光对准样品，该光的强度分布具有与强度最大值相邻的零点。以零点扫描样品的待扫描的部分区域。将令人感兴趣的对象的多个样本分别与样品的待扫描的部分区域中的一个重叠布置，使令人感兴趣的对象的多个样本承受变化的周围环境条件，以便检测所述令人感兴趣的对象对变化的周围环境条件作出的反应。在周围环境条件改变期间和/或之前以及之后，以相应零点扫描样品的各个部分区域。在至少一个方向上限制样品的待扫描的部分区域的尺寸，使得尺寸不大于强度最大值在该方向上的间距的75％，在该至少一个方向上，强度最大值与零点在样品中相邻。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 高分辨率 局部 成像 样品 中的 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于高分辨率地成像样品(8)中的借助冷光标记物(56，57)标记的结构的方法，其中，使对所述冷光标记物(56，57)发射冷光产生影响的光对准所述样品(8)，所述光具有如下强度分布：所述强度分布具有与强度最大值(3)相邻的零点(4)，其中，以所述零点(4)扫描所述样品(8)的待扫描的部分区域(7)，其中，记录从所述零点(4)的区域发射的冷光，并且将所述冷光配属于所述零点(4)在所述样品(8)中的位置，其特征在于，将令人感兴趣的对象(55)的多个样本分别与所述样品(8)的待扫描的部分区域(7)中的一个重叠地布置，使所述令人感兴趣的对象(55)的多个样本承受变化的周围环境条件，以便检测所述令人感兴趣的对象(55)对所述变化的周围环境条件作出的反应，其中，在所述周围环境条件改变期间和/或在所述周围环境条件改变之前以及在所述周围环境条件改变之后，以相应的零点(4)扫描所述样品(8)的各个部分区域，并且在至少一个方向上如此限制所述样品(8)的待扫描的部分区域(7)的尺寸，使得所述尺寸不大于所述强度最大值(3)在所述方向上的间距(D0)的75％，其中，在所述至少一个方向上，所述强度最大值(3)与所述零点(4)在所述样品中相邻。
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