[发明专利]成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法有效
| 申请号： | 201780018877.5 | 申请日： | 2017-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN108779550B | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 工藤修二;野口良;齐藤雄二;韩智华 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 王宇杨;杨青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法，所述成膜掩模具备：掩模片(1)，其在设置有多个开口图案(7)的薄膜层(4)上层叠设置有内包至少一个所述开口图案(7)的多个贯通孔(8)的金属层(5)，并且将一个面区划成包含多个所述开口图案(7)及贯通孔(8)的多个单位单元(6)；金属制的支承部件(2)，其与没有外在张力状态的所述掩模片(1)的所述金属层(5)接合而支承该所述掩模片，且与所述掩模片(1)的所述单位单元(6)相对应地具有开口部(10)。由此，对于薄膜图案的成膜能够确保较高的形状精度及位置精度。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜掩模 掩模片 开口图案 贯通孔 金属层 修复 薄膜图案 单位单元 多个单位 张力状态 支承部件 接合 薄膜层 金属制 开口部 成膜 内包 支承 制造 上层 | ||
【主权项】：
1.一种成膜掩模，其特征在于，具备：掩模片，其在设置有多个开口图案的薄膜层上层叠设置有内包至少一个所述开口图案的多个贯通孔的金属层，并且，将一个面区划成包含多个所述开口图案及贯通孔的多个单位单元；金属制的支承部件，其与没有外在张力状态的所述掩模片的所述金属层接合而支承该所述掩模片，且与所述掩模片的所述单位单元相对应地具有开口部，所述金属层以相对于基板产生拉伸内部应力的条件镀敷形成于密合保持于所述基板的所述薄膜层上，所述支承部件与存在所述拉伸内部应力的所述金属层接合。
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