[发明专利]显影装置和电路基板的制造方法在审
| 申请号： | 201780019073.7 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN108885411A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 中山拓哉;堀内健 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;于洁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供电路基板的制造方法和显影装置，在长条膜的喷淋方式的显影工序中能够消除显影不均，能够在不使用气割机的情况下防止显影液流入到清洗液槽中。一种电路基板的制造方法，依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序，并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液，所述制造方法中，在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下，连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。 | ||
| 搜索关键词： | 显影液 散布 电路基板 显影工序 液喷嘴 基材 显影装置 制造 锐角 搬运 干燥工序 机宽方向 清洗工序 清洗液槽 气割机 清洗液 稀释 复数 喷淋 铅直 潜像 涂膜 显影 液孔 连结 上游 | ||
【主权项】：
1.一种电路基板的制造方法，依次经过将具有形成了潜像的涂膜的基材大致水平地搬运并将显影液散布至所述基材上的显影工序、散布清洗液对显影液进行稀释的清洗工序、以及除去液体成分的干燥工序，并且在所述显影工序中利用复数个散液喷嘴朝向上游侧散布显影液，所述制造方法中，在设所述基材的搬运方向为X方向、铅直方向为Z方向、机宽方向为Y方向时，从所述散液喷嘴散布的显影液的散布方向O’沿所述Y方向投影在XZ平面上的直线O’XZ与所述X方向所形成的锐角侧的角度α’为45°以上85°以下，连结所述散液喷嘴的一系列散液孔的直线P’与所述X方向所形成的锐角侧的角度β’为45°以上80°以下。
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