[发明专利]保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片有效
| 申请号： | 201780019966.1 | 申请日： | 2017-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108886023B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 小桥力也;稻男洋一 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/00 | 分类号： | H01L23/00;H01L21/301 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种保护膜形成用膜，其为能量射线固化性的保护膜形成用膜，其中，在所述保护膜形成用膜中，至少一侧的表面(α)的表面粗糙度(Ra)为0.038μm以上。优选所述表面(α)的表面粗糙度(Ra)为2.0μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 复合 | ||
【主权项】：
1.一种保护膜形成用膜，其为能量射线固化性的保护膜形成用膜，其中，在所述保护膜形成用膜中，至少一侧的表面(α)的表面粗糙度(Ra)为0.038μm以上。
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