[发明专利]包括半导体加热器的气溶胶生成装置有效
| 申请号： | 201780020817.7 | 申请日： | 2017-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN109069775B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | R·N·巴蒂斯塔 | 申请（专利权）人： | 菲利普莫里斯生产公司 |
| 主分类号： | A61M15/06 | 分类号： | A61M15/06;A24F40/20;A24F40/40;A24F40/46;A24F40/50;A24F40/51;A61M11/04;A61M15/00;B05B11/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 白皎 |
| 地址： | 瑞士纳*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种气溶胶生成装置(10)，其包括电源(40)、用于收纳气溶胶生成制品(50；60)的腔(14)以及定位在所述腔(14)内的多个半导体加热器(22)。每个半导体加热器(22)包括衬底层(32)和提供于所述衬底层(32)上的加热层(36)，其中所述加热层(36)是连续层。所述气溶胶生成装置(10)还包括控制器(42)，其配置成控制从所述电源(40)到所述半导体加热器(22)中的每一个的电力供应。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 半导体 加热器 气溶胶 生成 装置 | ||
【主权项】：
1.一种气溶胶生成装置，包括：电源；腔，其用于收纳气溶胶生成制品；多个半导体加热器，其定位于所述腔内，每个半导体加热器包括衬底层和提供于所述衬底层上的加热层，其中所述加热层是连续层；以及控制器，其配置成控制从所述电源到所述半导体加热器中的每一个的电力供应。
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