[发明专利]具有自环形槽突出的支承突出部的基材固持设备在审
| 申请号： | 201780022255.X | 申请日： | 2017-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN108884565A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | J.奥多德;D.克莱森斯;O.菲隆 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C14/50;C23C14/54;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 侯宇 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将至少一个基材(20)固持在CVD或PVD反应器的过程室中的设备，在所述CVD或PVD反应器的平坦的顶侧上具有至少一个被至少一个定位侧边(3)限定的、用于容纳至少一个基材(20)的容纳部，其中，支承料槽(2)具有支承料槽底部(4)，在定位侧边(3)的附近，支承突出部(8)自该支承料槽底部突出，所述支承突出部构成被侧壁(10)围绕的、位于支承平面(E)中的支承区(9)，所述支承区离围绕支承突出部(8)的槽(5)的底部(6)具有比离支承料槽底部(4)更大的垂直距离。为了提高在基材的顶侧上的温度均匀性而规定，槽(5)在凹陷(11)中延伸，所述凹陷的垂直高度位于槽(5)的底部(6)与支承料槽底部(4)之间。支承突出部(8)和/或围绕支承突出部(8)的槽(5)具有离定位侧边(3)的水平距离。 | ||
| 搜索关键词： | 支承突出部 料槽 支承 基材 定位侧边 反应器 支承区 凹陷 顶侧 容纳 温度均匀性 垂直距离 固持设备 水平距离 支承平面 过程室 环形槽 侧壁 固持 垂直 平坦 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种用于将至少一个基材(20)固持在CVD或PVD反应器的过程室中的设备，在所述CVD或PVD反应器的平坦的顶侧上具有至少一个被至少一个定位侧边(3)限定的、用于容纳至少一个基材(20)的容纳部，其中，支承料槽(2)具有支承料槽底部(4)，在定位侧边(3)的附近，支承突出部(8)自该支承料槽底部突出，所述支承突出部构成被侧壁(10)围绕的、位于支承平面(E)中的支承区(9)，所述支承区离围绕支承突出部(8)的槽(5)的底部(6)具有比离支承料槽底部(4)更大的垂直距离，其特征在于，槽(5)在凹陷(11)中延伸，所述凹陷的垂直高度位于槽(5)的底部(6)与支承料槽底部(4)之间。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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