[发明专利]光刻装置、器件制造方法以及相关的数据处理装置和计算机程序产品有效
| 申请号： | 201780022917.3 | 申请日： | 2017-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN108885414B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | H·E·切克利;M·伊什巴士;L·P·范迪克;R·J·F·范哈伦;柳星兰;R·M·琼格布拉特;C·M·阿芬陶诗艾格;R·H·J·奥腾 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻处理，包括：将衬底(W)夹持(CL)到衬底支持件(WT)上；跨被夹持衬底测量(AS)标记的位置；以及使用测量的位置向被夹持衬底施加图案。基于跨衬底测量的位置中的弯曲诱发特性(402、404、406)的识别，在衬底的局部区域中向所施加图案的定位应用校正(WCOR)。在一个实施例中，通过首先使用测量的位置和其他信息(CDAT)推断弯曲衬底(FFW)的一个或多个形状特性来生成校正。然后，基于推断的形状特性，响应于夹持向弯曲衬底的仿真变形应用夹持模型。第三，基于仿真的变形计算所述校正(LCOR)。一些或所有这些步骤可以集成和/或通过查找表来实施。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 相关 数据处理 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，用于在衬底上施加图案，所述装置包括：衬底支持件，用于夹持所述衬底；对准传感器，用于测量跨被夹持衬底分布的特征的位置；以及图案化系统，被配置为在至少部分地基于由所述对准传感器测量的位置定位所施加的图案的同时将所述图案施加于所述被夹持衬底，其中所述图案化系统被配置为基于通过所述对准传感器跨所述衬底测量的位置中的弯曲诱发特性的识别，在所述衬底的一个或多个区域中向所施加的图案的定位应用校正。
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