[发明专利]利用选定的蚀刻剂气体混合物以及调整操作变量修整无机抗蚀剂的方法有效
| 申请号： | 201780024178.1 | 申请日： | 2017-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN109074004B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 文·梁;阿基特若·高 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/033;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;苏虹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种修整在集成方案中的无机抗蚀剂的方法，所述方法包括：将基底设置在处理室中，所述基底具有无机抗蚀剂层和下层，所述下层包括氧化物层、硅氮化物层和基础层的，所述无机抗蚀剂层具有无机结构图案；进行无机抗蚀剂修整工艺以选择性除去所述基底上无机抗蚀剂结构图案的一部分，所述修整工艺使用第一蚀刻剂气体混合物并产生第一图案；控制所述集成方案的所选择的两个或更多个操作变量以实现目标集成目的；其中所述第一蚀刻剂气体混合物包含含氟气体和稀释气体；其中所述目标集成目的包括目标临界尺寸(CD)、目标线边缘粗糙度(LER)、目标线宽粗糙度(LWR)和目标基底处理能力。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 选定 蚀刻 气体 混合物 以及 调整 操作 变量 修整 无机 抗蚀剂 方法 | ||
【主权项】：
1.一种修整在集成方案中的无机抗蚀剂的方法，所述方法包括：将基底设置在处理室中，所述基底具有无机抗蚀剂层和下层，所述下层包括氧化物层、钛氮化物层和基础层，所述无机抗蚀剂层具有无机结构图案；进行无机抗蚀剂修整工艺以选择性除去所述基底上的无机抗蚀剂结构图案的一部分，所述修整工艺使用第一蚀刻剂气体混合物并产生第一图案；控制所述集成方案的所选择的两个或更多个操作变量以实现目标集成目的；其中所述第一蚀刻剂气体混合物包含含氟气体和稀释气体；以及其中所述目标集成目的包括目标临界尺寸(CD)、目标线边缘粗糙度(LER)和目标线宽粗糙度(LWR)。
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