[发明专利]改进的基板支撑件在审
| 申请号： | 201780025721.X | 申请日： | 2017-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN109075118A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 苏布哈斯什·罗伊;拉哈夫·米勒·西萨拉穆;乌梅沙·阿切利;桑杰伊·D·雅达夫;元泰景 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 描述了一种用于处理基板的设备。更具体地，本公开内容的实施方式涉及一种用于在处理期间使用湍流加热和冷却基板的改进的基板支撑件。通过在通道内产生湍流，在较短的时间段内传递更大量的热。本设计是具有成本效益的并有利地提供温度传递的更均匀的分布。在一个实施方式中，公开了一种基板支撑组件。所述基板支撑组件包括：静电吸盘，具有与基板接触的表面；和支撑板，与所述静电吸盘相邻。所述支撑板包括一个或多个通道、一个或多个端部空间、以及一个或多个插塞。所述基板支撑组件也包括耦接到所述支撑板的轴。 | ||
| 搜索关键词： | 基板支撑组件 支撑板 基板支撑件 静电吸盘 湍流 加热和冷却 成本效益 处理基板 处理期间 端部空间 基板接触 温度传递 时间段 插塞 基板 改进 | ||
【主权项】：
1.一种基板支撑组件，包括：静电吸盘；支撑板，耦接到所述静电吸盘，所述支撑板包括：一个或多个通道，设置在所述支撑板内；一个或多个端部空间，设置在所述一个或多个通道内；和一个或多个插塞；和轴，耦接到所述支撑板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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