[发明专利]具有定制响应性光学成像的EBV相关肿瘤的治疗抑制剂有效

专利信息
申请号: 201780026402.0 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN109414495B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 黄嘉良;麦乃岐;江丽君 申请(专利权)人: 香港浸会大学
主分类号: A61K39/245 分类号: A61K39/245;G01N33/533;A61P31/22;A61P35/00
代理公司: 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 代理人: 康健;王思琪
地址: 中国香*** 国省代码: 香港;81
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摘要: 提供了核透过性小分子抑制剂L2P4(其中L2是4‑(4‑(二乙氨基)苯乙烯基)‑N‑羧甲基吡啶鎓氯化物,P4是包含CAhxYFMVFGGRrRK的氨基酸序列,并且它们通过酰胺键偶联)及其合成方法,所述核透过性小分子抑制剂有效靶向EBNA1的二聚化界面,其对于EBV和相关肿瘤的生长是至关重要的过程。还提供了治疗EBV相关癌症和使EBV相关癌症成像的方法。
搜索关键词: 具有 定制 响应 光学 成像 ebv 相关 肿瘤 治疗 抑制剂
【主权项】:
1.一种核透过性小分子抑制剂,其包含通过酰胺键与含有CAhxYFMVFGGRrRK(SEQ ID NO.3)的氨基酸序列偶联的4‑(4‑(二乙氨基)苯乙烯基)‑N‑羧甲基吡啶鎓氯化物。
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