[发明专利]检体处理系统以及控制方法有效
| 申请号： | 201780027074.6 | 申请日： | 2017-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN109073665B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 高坂望;坂卷俊哉;佐川有希子 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟;范胜杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 中央处理器基于变换表，根据序列数据生成多个命令列。多个命令列经由内部网络被发送到多个本地单元。各本地单元具有本地处理器和I/O板。从中间层至输入输出层为止构成通用平台。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 系统 以及 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种检体处理系统，其特征在于，包括：具备用于对检体进行处理的多个设备的至少一个装置，对上述多个设备决定至少一个设备组，上述装置包括：中央单元，其基于序列数据来生成命令列；以及本地单元，其连接到上述设备组，通过执行本地的命令列来控制上述设备组，上述中央单元包括：变换表，其用于针对确定控制对象设备的每个逻辑名称，确定与该逻辑名称对应的本地单元和物理名称；以及生成单元，其基于上述变换表并根据上述序列数据所包含的命令中的逻辑名称来判断发送该命令的本地单元，并且将该命令中的逻辑名称变换为物理名称，由此生成上述命令列。
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