[发明专利]具有防篡改保护的薄膜结构在审

专利信息
申请号: 201780027874.8 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN109313865A 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 马克·沃尔特 申请(专利权)人: 施赖纳集团两合公司
主分类号: G09F3/00 分类号: G09F3/00;G09F3/03;G09F3/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁永凡;周涛
地址: 德国欧博*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 具有防篡改保护的薄膜结构(100)包括:上部薄膜(10);能激光刻写的层(20),所述层设置在上部薄膜(40)的下侧(U10)上;以及下部薄膜(40);和用于将下部薄膜(40)与上部薄膜(10)和能激光刻写的层(20)连接的连接层(30)。连接层(30)设置在所述能激光刻写的层(20)和所述下部薄膜(40)之间。薄膜结构(100)具有刻写的区域(101)和未刻写的区域(102)。上部薄膜(10)在薄膜结构的刻写的区域(101)中与下部薄膜(40)熔合。由此,在尝试篡改时几乎不可能:上部薄膜(10)无破坏地与刻写的层(20)与下部薄膜(40)分离。
搜索关键词: 薄膜 刻写 薄膜结构 激光刻写 防篡改 连接层 熔合 篡改
【主权项】:
1.一种具有防篡改保护的薄膜结构,所述薄膜结构包括:‑上部薄膜(10);‑能激光刻写的层(20),所述能激光刻写的层设置在所述上部薄膜(10)的下侧(U10)上;‑下部薄膜(40);‑用于将所述下部薄膜(40)与所述上部薄膜(10)和所述能激光刻写的层(20)连接的连接层(30),其中所述连接层(30)设置在所述能激光刻写的层(20)与所述下部薄膜(40)之间,‑其中所述薄膜结构(100)具有刻写的区域(101)和未刻写的区域(102),‑其中所述上部薄膜(10)在所述刻写的区域(101)中与所述下部薄膜(40)熔合。
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