[发明专利]透明导电性薄膜及其制造方法在审
申请号: | 201780029395.X | 申请日: | 2017-02-08 |
公开(公告)号: | CN109155166A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 田口祐介;大本慎也;坂口雅史 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;B32B9/00;H01B13/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种透明导电性薄膜(10),其在树脂薄膜(1)的一个表面上依次配置有电介质层(2)及铟锡复合氧化物层(3),树脂薄膜(1)为选自由聚酯系树脂薄膜、纤维素系树脂薄膜及酰亚胺系树脂薄膜组成的组中的一种,电介质层(2)由有机物或有机物与无机物的混合物构成、并且厚度为0.005μm以上且0.100μm以下,在铟锡复合氧化物层(3)的配置有电介质层(2)的一侧的相反侧的表面,存在2.1原子%以上且4.0原子%以下的、可由三氟乙酸酐进行化学修饰的活性氢基。本发明的透明导电性薄膜(10)可以通过在树脂薄膜(1)的一个表面上层叠电介质层(2),在电介质层(2)的配置有树脂薄膜(1)的一侧的相反侧的表面上层叠铟锡复合氧化物层(3)来制作。 | ||
搜索关键词: | 树脂薄膜 电介质层 透明导电性薄膜 铟锡复合氧化物 相反侧 有机物 配置 纤维素系树脂薄膜 无机物 层叠电介质层 聚酯系树脂 三氟乙酸酐 化学修饰 活性氢基 混合物 酰亚胺 薄膜 制作 自由 制造 | ||
【主权项】:
1.一种透明导电性薄膜,其在树脂薄膜的一个表面上依次配置有电介质层及铟锡复合氧化物层,其特征在于,所述树脂薄膜为选自由聚酯系树脂薄膜、纤维素系树脂薄膜及酰亚胺系树脂薄膜组成的组中的一种,所述电介质层由有机物或有机物与无机物的混合物构成,并且厚度为0.005μm以上且0.100μm以下,在铟锡复合氧化物层的配置有电介质层的一侧的相反侧的表面,存在2.1原子%以上且4.0原子%以下的可由三氟乙酸酐进行化学修饰的活性氢基。
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